ASML及其光学合作伙伴Carl Zeiss的工程师在一篇经同行评审的论文中表示,作为ASML最先进芯片制造设备的继任者,新一代设备预计将在约10年内问世。这款被命名为“Hyper NA”的设备将在大量复用两家公司现有技术的同时,实现更精细的电路图案化,尽管仍面临诸多挑战。ASML已开始研发该设备,但尚未承诺投入生产。该设备不仅关乎该公司未来的发展前景,也关系到其合作伙伴和竞争对手的前景。论文指出,Hyper NA的技术路线基于现有光刻技术的延伸,通过提高数值孔径来提升分辨率,从而支持更小的芯片制程节点。目前,ASML的极紫外光刻机是生产先进芯片的关键设备,而Hyper NA被视为进一步延续摩尔定律的重要候选方案。然而,该设备在光学系统、材料、工艺控制等方面仍存在技术障碍,需要长期研发投入。行业分析认为,如果Hyper NA按计划实现,将推动半导体制造向更先进节点演进,并对全球芯片产业竞争格局产生深远影响。