新型光刻胶取得技术突破，通过验证，满足进口替代

国产半导体产业链还处于发展阶段，在光刻胶领域，目前已经可以做到支持14nm工艺。但有很多人不知道，还有一种新型的光刻胶，可以减少工艺流程、提高生产效率，而这种光刻胶也一直被国外企业垄断。好消息是，它已经被我国科学家攻克。本期视频我们来聊聊国产光刻胶的新进步。