此前，荷兰光刻机巨头ASML向我国出口光刻机与美国谈判的事情，一度受到了非常广泛的关注。其中有一个流传很广的观点，认为由于目前日本纳米压印技术（NIL）取得了突破，可以在无需采用EUV光刻机的情况下，制造出5nm的芯片，使得ASML倍感压力。NIL纳米压印是什么技术？这项技术能够代替EUV光刻机吗？对比EUV、DUV电子束技术，它的优劣势在哪里？我们能否使用这项技术实现弯道超车呢？