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#中国智造
2022-12-07 10:54
我国造出新技术路线光刻机,可实现22nm工艺制程

我国在4年前曾研制出一种特别的光刻设备,但是很少有人知道,它就是超分辨率光刻机。这台光刻机可以使用365nm波长的光源,实现22nm的工艺,通过多重曝光等手段,还可以实现10nm以下的工艺制程。据了解,这款光刻机已经制备出一系列纳米功能器件,验证了该装备纳米功能器件的加工能力已经达到了实用化水平。

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