我国造出新技术路线光刻机，可实现22nm工艺制程

我国在4年前曾研制出一种特别的光刻设备，但是很少有人知道，它就是超分辨率光刻机。这台光刻机可以使用365nm波长的光源，实现22nm的工艺，通过多重曝光等手段，还可以实现10nm以下的工艺制程。据了解，这款光刻机已经制备出一系列纳米功能器件，验证了该装备纳米功能器件的加工能力已经达到了实用化水平。