佳能在憋大招？要颠覆ASML EUV吗？

10月13日消息，日本佳能宣布推出新型光刻设备：FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备。据佳能介绍，传统的光刻设备通过将电路图案投射到涂有抗蚀剂的晶圆上，而佳能此新产品通过在晶圆上的抗蚀剂上压印有电路图案的掩模来实现这一点，就像邮票一样。这好比中国古代的活版印刷。今天，我将从佳能最新发布的纳米压印光刻系统，详细的聊聊NIL纳米压印的技术前景，商业可行性如何。