正确的提示信息

扫码打开虎嗅APP

从思考到创造
打开APP
搜索历史
删除
完成
全部删除
热搜词
#芯片新动向
2022-12-25 14:31
复旦大学突破CFET晶体管技术,绕开EUV光刻工艺


芯片想要获得更好的性能,就必须拥有更多的晶体管,然而在某些特定的使用场景下,例如手机这种小型电子设备中,由于面积有限,所以需要芯片越小越好,那么这就需要在制造工艺上尽量缩小晶体管的尺寸。目前市面上已经量产的最高工艺制程的芯片是4nm,未来1-2年有望实现3nm,但是这些都是依靠荷兰ASML的EUV光刻机实现的,而复旦大学研发出异质三维叠层互补晶体管的技术,可以成功绕开EUV光刻机。

本内容为作者独立观点,不代表虎嗅立场。未经允许不得转载,授权事宜请联系 hezuo@huxiu.com
如对本稿件有异议或投诉,请联系tougao@huxiu.com
打开虎嗅APP,查看全文
频道:

支持一下

赞赏

0人已赞赏

大 家 都 在 看

大 家 都 在 搜

好的内容,值得赞赏

您的赞赏金额会直接进入作者的虎嗅账号

    自定义
    支付: